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磷化硼硬质涂层的制备方法

2007年 应用技术
  • 成果简介
本发明提供了一种磷化硼硬质涂层的制备方法，系采用射频等离子体增强CVD技术，该方法是在被保护工件放置在射频极板上并加热到200～700℃，采用含硼气体和含磷气体的射频辉光放电进行磷化硼涂层的沉积，沉积过程分为两个阶段：首先在高射频功率下沉积磷化硼涂层，然后降低射频功率沉积，沉积结束后工件在含有含磷气体的气氛中冷却至室温。与现有技术相比，本发明提供的方法的特点是制备温度低，制备的磷化硼涂层成...
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